1、反渗透设备简介

反渗透设备是将原水经过精细过滤器、颗粒活性碳过滤器、压缩活性碳过滤器等，再通过泵加压，利用孔径为1/10000μm（相当于大肠杆l菌大小的1/6000，病毒的1/300）的反渗透膜（RO膜），使较高浓度的水变为低浓度水，同时将工业污染物、重金属、细菌、病毒等大量混入水中的杂质全部隔离，从而达到饮用规定的理化指标及卫生标准，产出至清至纯的水。该半导体厂采取在一级反渗透前增加SBS,MDC加药装置，保证了一级反渗透系统的安全运行。

反洗工艺简介

反渗透设备因为一些产品使用的材料强度不够及其耐侵蚀性差，造成横轴断裂等设备故障，并且膜的种类不同对进水水质要求也有所不同。膜两侧有一个压力差，如水处理设备中应用比较广泛的格栅除污机，因为一些产品使用的材料强度不够及其耐侵蚀性差，反渗透设备造成横轴断裂等设备故障，还不包括因为维修影响运行造成的损失，严重影响了环境保护投资效益，还会使反渗透膜表面极易结垢，采用反渗透膜壳可以有效的保护膜元件。元件的保养水处理设备系统的浓水调节阀及并接在浓水出口的排放阀应处于完全开启状态。

苏州千卓工程，  目前公司主营业务有：机电工程、电气工程、环保工程、水处理工程、管道工程等项目的设计、施工、维护。设备销售方面主要有：净水、纯水、超纯水、中水回用、污水处理、高浓度工业废水、循环零排放、废气处理、智能自控成套、动力机电成套、制冷、通风等方面。在有些半导体厂中，也有用“阴床十阳床”代替电去离子装置的，主要根据原水水质和产水水质对弱电解质的要求而定，这里主要探讨常用的电去离子工艺。

超纯水技术在半导体行业的应用

1超纯水制造工艺半导体行业超纯水制造工艺可以概述为4个部分，分别为预处理部分、RO部分、电去离子部分和抛光混床部分。在有些半导体厂中，也有用“阴床十阳床”代替电去离子装置的，主要根据原水水质和产水水质对弱电解质的要求而定，这里主要探讨常用的电去离子工艺。在超纯水制造工艺中，传统预处理方式是“多介质过滤器+活性炭过滤器”。

反渗透部分在半导体行业中，反渗透部分多采用双级反渗透工艺，以确保后续工艺的安全性。通过双级反渗透，可去除水中超过99%的悬浮物、胶体，98%以上的溶解盐，大部分的微生物、TOC和部分CO2。该半导体制造厂也采用双级反渗透工艺，同时将双级反渗透拆分成两个独立的部分，这样就更加有效地保证了系统的连续运行，即使在更换反渗透膜或在线清洗反渗透膜时，也不会造成整个工厂大而积的停水，确保了关键部位的连续用水。2、停止设备运行保护的法则长期运行设备，反渗透纯水设备技术会出现波动，纯净水设备一旦处理不合理会导致设备的膜性能下降，严重可能导致不能使用。该半导体厂采取在一级反渗透前增加SBS,MDC加药装置，保证了一级反渗透系统的安全运行;在一级反渗透和二级反渗透之间增加一套加碱装置，可提高二级反渗透系统的脱盐率。